科学家仅用光在晶体上“雕刻”出爱因斯坦肖像
来源：XPANCEO 自然科学研究有限责任公司
日期：2026年4月21日
一种光敏晶体开启了“光写入”技术的新时代。三硫化砷（Arsenic trisulfide）可以用简单的光进行重塑和永久改变，制造出超精细的光学图案，无需昂贵的制造工具。科学家甚至在晶体上蚀刻了纳米级的爱因斯坦肖像和高密度图案，这些图案可以用作安全的光学签名。这一突破可能从先进传感器到下一代AR设备都得到应用。
一束532纳米的连续波激光在As₂S₃晶片上“雕刻”出微观图案，包括一幅单色的阿尔伯特·爱因斯坦肖像（点间距700纳米）和一个类似二维码的设计（点间距600纳米）。图片来源：XPANCEO
XPANCEO 新兴技术研究中心的研究人员，与诺贝尔奖得主康斯坦丁·诺沃肖洛夫教授（曼彻斯特大学和新加坡国立大学）合作，发现了一种名为三硫化砷（As2S3）的晶体范德华半导体具有不寻常的光学特性。他们的研究结果表明，这种材料可以被光永久改变，甚至可以用简单的连续波（CW）光在纳米尺度上进行塑形。这种方法避免了昂贵洁净室制造或先进的飞秒激光系统的需求。
这一发现背后的一个关键概念是折射率，它描述了材料弯曲或减慢光线的程度。折射率越高的材料，在器件中束缚和引导光的能力就越强。在某些材料中，光也可以改变…
原文链接：https://www.sciencedaily.com/releases/2026/04/260421042755.htm
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